山梨大学
大学院 総合研究部 工学域
電気電子情報工学系(電気電子工学)

顔写真
准教授

村中 司

ムラナカ ツトム
Muranaka Tsutomu
  • 1971年生まれ

経歴

  1. 日本学術振興会 特別研究員(DC2) 2000/01/01
  2. 北海道大学 量子集積エレクトロニクス研究センター 講師(研究機関研究員) 2002/04/01
  3. 北海道大学 大学院工学研究科 COE研究員 2003/04/01
  4. 北見工業大学 電気電子工学科 助手(任期付) 2004/04/01
  5. 山梨大学 大学院 医学工学総合研究部 助手 2006/04/01
  6. 山梨大学 大学院 医学工学総合研究部 助教 2007/04/01
  7. 山梨大学 大学院 医学工学総合研究部 准教授 2009/04/01
  8. 山梨大学 大学院 総合研究部 准教授 2014/10/01

学歴

  1. 東京理科大学 理学部 応用物理学科 1996/03/20 卒業
  2. 北海道大学 工学研究科 電子情報工学専攻 博士前期 1999/03/25 修了
  3. 北海道大学 工学研究科 電子情報工学専攻 博士後期 2002/03/25 修了

学位

  1. 博士(工学) 北海道大学 2002/03/25

研究分野

  1. 電子・電気材料工学 半導体結晶成長、半導体デバイス、量子機能構造

研究キーワード

  1. 半導体工学、結晶工学、固体電子デバイス、半導体ナノ構造、II-VI族化合物および関連材料、

研究テーマ

  1. 酸化亜鉛半導体の形成とデバイス応用/II-VI族希薄磁性半導体ナノ構造の形成とそのデバイス応用

競争的資金等の研究課題

  1. マルチバンドギャップ半導体のバンド構造制御と高効率太陽電池の作製 科学研究費補助金 基盤研究(C) 日本学術振興会 科学研究費補助金 2016/04/01-2017/03/31
  2. 原子状酸素支援分子線エピタキシー法による酸化亜鉛半導体フレキシブルデバイスの開発 科学研究費補助金 基盤研究(C) 日本学術振興会 科学研究費補助金 2016/04/01-2017/03/31
  3. ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)透明導電性薄膜の大面積成膜技術の開発 共同研究 2016/04/01-2017/03/31
  4. マルチバンドギャップ半導体のバンド構造制御と高効率太陽電池の作製 科学研究費補助金 基盤研究(C) 日本学術振興会 科学研究費補助金 2015/04/01-2016/03/31
  5. 富士電機寄附講座 奨学寄附金 2015/04/01-2016/03/31

論文

  1. Energy relaxation process in exciton transfer between (Zn, Cd, Mn)Se and (Zn, Cd)Se quantum wells T. Matsumoto,F. Iwasaki,S. Konaka,M. Hishikawa,S. Fukasawa,T. Muranaka,Y. Nabetani,A. Ishikawa,K. Uchiyama,K. Kobayashi,H. Hori Physica Status Solidi (c) 11/ 7-8, 1244-1247 2014/07/01
  2. Spin-polarized exciton transfer in Zn-Cd-Mn-Se multi quantum wells T. Matsumoto,F. Iwasaki,M. Hishikawa,S. Fukasawa,T. Muranaka,Y. Nabetani Physica Status Solidi (c) 10/ 7-8, 1152-1155 2013/05/01
  3. Optical and Structural Properties of Zn–Cd–Mn–Se Double Quantum Well Systems Takashi Matsumoto,Kenta Ohmori,Kazuki Kodama,Masao Hishikawa,Sakyo Fukasawa,Fumiaki Iwasaki,Tsutomu Muranaka,Yoichi Nabetani Japanese Journal of Applied Physics 50/ 5, 1-4 2011/05/01
  4. Effects of Ga Doping and Substrate Temperature on Electrical Properties of ZnO Transparent Conducting Films Grown by Plasma-Assisted Deposition Takashi Matsumoto,Keiichi Mizuguchi,Takahiro Horii,Shiho Sano,Tsutomu Muranaka,Yoichi Nabetani,Satoshi Hiraki,Hideaki Furukawa,Akihiro Fukasawa,Shingo Sakamoto,Shigeru Hagihara,Hiroshi Kono,Kazuhiro Kijima,Osamu Abe,Kouji Yashiro Japanese Journal of Applied Physics 50/ 5, 1-4 2011/05/01
  5. Structural and optical properties of ZnSe-based diluted magnetic semiconductor quantum-well wire arrays by wet chemical etching T. Muranaka,S. Iizuka,M. Hishikawa,K. Kodama,K. Ohmori,Y. Nabetani,T. Matsumoto Physica Status Solidi (c) 7/ 6, 1648-1650 2010/06/01

研究発表

  1. ポスター発表 プラズマ支援分子線堆積法によるフレキシブル基板上へのGZO透明導電膜の形成と評価 (2) 第64回応用物理学会春季学術講演会 2017/03/16
  2. 口頭発表(招待・特別) 高透過率、フレキシブルおよびレアメタルレス透明導電膜とその成膜装置の事業化 “INNOVATION VILLAGE” in SEMICON JAPAN 2016 2016/12/15
  3. 口頭発表(一般) フレキシブル対応レアメタルレス透明導電膜製造装置と薄膜製品の販売 NEDO TCP 2016 2016/12/08
  4. ポスター発表 極薄チャネルZnO-TFTにおける熱処理の効果 第77回応用物理学会秋季学術講演会 2016/09/14
  5. ポスター発表 大面積フレキシブルシートに対応したロール・ツー・ロール式プラズマ成膜装置の開発 平成28年度 やまなし産学官連携研究交流事業 研究成果発表会 2016/09/02

上記以外の発表の総数

  1. 2016 3 0 3
  2. 2015 5 0 5
  3. 2014 1 0 1
  4. 2013 5 0 5
  5. 2012 7 0 7

知的財産権

  1. 特許 縦型成膜装置(ロール・ツー・ロール垂直搬送水平成膜方式による小型機能性薄膜製造装置) 特願2014-113615 2014/05/31

受賞

  1. NEDO TCP 2016 ファイナリスト賞 大面積・省スペースRoll to Roll技術による 次世代型フレキシブル機能性薄膜製造装置および技術の販売 2016/12/08
  2. 優秀教員奨励制度に係る表彰 2013/03/01
  3. 第16回応用物理学会講演奨励賞 2004/04/18

学外あるいは所属学部等外の組織との共同研究

  1. 2016/04/01-2017/03/31 株式会社中家製作所 代表 ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)透明導電性薄膜の大面積成膜技術の開発 【役割】GZO透明導電性薄膜の作製・評価、成膜装置の開発 【成果】プラズマ支援堆積法によりガラスおよびPC基板上にGZO薄膜を形成し、膜質の評価を行った。X線回折法による構造評価からPC基板においてもガラス基板と同品質の透明導電性薄膜が形成可能であることを示した。また、ロール状のフレキシブルシートへの成膜を可能とするため、専用の装置機構を開発と改良を行った。
  2. 2015/04/01-2016/03/31 株式会社中家製作所 代表 ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)透明導電性薄膜の大面積成膜技術の開発 【役割】GZO透明導電性薄膜の作製・評価、成膜装置の開発 【成果】プラズマ支援堆積法によりガラスおよびPC基板上にGZO薄膜を形成し、膜質の評価を行った。X線回折法による構造評価からPC基板においてもガラス基板と同品質の透明導電性薄膜が形成可能であることを示した。また、ロール状のフレキシブルシートへの成膜を可能とするため、専用の装置機構を開発と改良を行った。
  3. 2014/04/01-2015/03/31 株式会社中家製作所 代表 ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)透明導電性薄膜の大面積成膜技術の開発 【役割】GZO透明導電性薄膜の作製・評価、成膜装置の開発 【成果】プラズマ支援堆積法によりガラスおよびPC基板上にGZO薄膜を形成し、膜質の評価を行った。X線回折法による構造評価からPC基板においてもガラス基板と同品質の透明導電性薄膜が形成可能であることを示した。また、ロール状のフレキシブルシートへの成膜を可能とするため、専用の装置機構を開発と改良を行った。
  4. 2013/04/01-2014/03/31 株式会社中家製作所 代表 ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)透明導電性薄膜の大面積成膜技術の開発 【役割】GZO透明導電性薄膜の作製・評価、成膜装置の開発 【成果】プラズマ支援堆積法によりガラスおよびPC基板上にGZO薄膜を形成し、膜質の評価を行った。X線回折法による構造評価からPC基板においてもガラス基板と同品質の透明導電性薄膜が形成可能であることを示した。また、ロール状のフレキシブルシートへの成膜を可能とするため、専用の装置機構を開発した。
  5. 2012/04/02-2013/03/31 株式会社中家製作所 代表 ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)透明導電性薄膜の大面積成膜技術の開発 【役割】GZO透明導電性薄膜の作製・評価、成膜装置の開発 【成果】プラズマ支援堆積法によりガラスおよびPC基板上にGZO薄膜を形成し、膜質の評価を行った。X線回折法による構造評価からPC基板においてもガラス基板と同品質の透明導電性薄膜が形成可能であることを示した。

その他の教育実績

  1. 2016 2016高専生向け実習プログラム EE1(半導体および有機デバイスの評価)

その他の学部学生指導

  1. 2015 2015-2016 電気電子工学科 4年次クラス担任
  2. 2014 2014-2015 電気電子工学科 3年次クラス担任
  3. 2013 2013-2014 電気電子工学科 2年次クラス担任
  4. 2012 2012-2013 電気電子工学科 1年次クラス担任 3 電気電子工学科1年生留学生に対する生活指導 6 微分積分学補講 対象:電気電子工学科1年生 数III未履修者 3 電気電子工学科1年生に対する生活指導
  5. 2010 2010-2011 電気電子システム工学科 Eコース4年次クラス担任

修士・博士論文審査

  1. 2016 副査 1
  2. 2016 副査 3
  3. 2016 主査 1
  4. 2015 副査 5
  5. 2015 主査 3

社会貢献活動

  1. 液体窒素利用者講習会 2016/05/16
  2. 第16回II-VI族化合物および関連材料に関する国際会議 実行委員/国際プログラム委員 2013/04/01-2014/03/31 (活動の内容) 第16回II-VI族化合物および関連材料に関する国際会議の事務・財務担当/プログラム委員 (開催回数) 5

国際交流・国際貢献

  1. 2016 国際交流、地域交流、留学生と日本人学生の交流 応用物理学会第19回リフレッシュ理科教室東海支部山梨会場に参加、実験工作の指導(2016/08/01-02)
  2. 2015 応用物理学会第18回リフレッシュ理科教室東海支部山梨会場に参加、実験工作の指導(2015/08/03-04)
  3. 2014 応用物理学会第17回リフレッシュ理科教室東海支部山梨会場に参加、実験工作の指導(2014/08/04-05)
  4. 2013 応用物理学会第16回リフレッシュ理科教室東海支部山梨会場に参加、実験工作の指導(2013/08/05-06)
  5. 2012 応用物理学会第15回リフレッシュ理科教室東海支部山梨会場に参加、実験工作の指導(2012/08/06-07)

所属学協会

  1. 応用物理学会 結晶工学分科会 1997/04