山梨大学
大学院 総合研究部 工学域
物質科学系(機器分析センター)

顔写真
准教授

山中 淳二

ヤマナカ ジユンジ
Junji YAMANAKA

プロフィール

  1. 英語:TOEIC 890 点.

経歴

  1. 株式会社日産アーク研究部研究員 1994/04/01
  2. 山梨大学工学部附属無機合成研究施設(2002.4からクリスタル科学研究センター)助手 1997/04/01
  3. 山梨大学 助教授 大学院医学工学総合研究部(2007年4月より職名変更により准教授) 2006/05/01

学歴

  1. 名古屋工業大学 1988/03
  2. 名古屋工業大学 1990/03
  3. 東京工業大学 1994/03

学位

  1. 工学修士 名古屋工業大学 1990/03
  2. 博士(工学) 東京工業大学 1994/03

その他の経歴

  1. TOEIC890点(2005年)

研究分野

  1. 電子・電気材料工学
  2. 金属物性 相変態論
  3. 構造・機能材料 材料組織学
  4. 電子顕微鏡材料学

研究キーワード

  1. 半導体ヘテロ構造
  2. 微細組織
  3. 透過電子顕微鏡
  4. 相変態
  5. 無機材料

研究テーマ

  1. 半導体の微細組織の評価
  2. 難黒鉛化性炭素の微細組織変化
  3. レーザー照射した材料の格子欠陥

競争的資金等の研究課題

  1. マイクロ波プラズマ励起種を用いた選択加熱技術の開発 科学研究費補助金 2010/04/01-2013/03/31
  2. マイクロ波直接加熱による高移動度シリコン・ゲルマニウム薄膜作製技術の開発 科学研究費補助金 2006/04/01-2008/03/31
  3. シリコン半導体薄膜およびナノ構造材料の極低温合成に関する基礎的研究 科学研究費補助金 2006/04/01-2008/03/31
  4. イオン注入を利用した格子緩和SiGe薄膜の作製 奨学寄附金 2005/10/01-2006/09/30
  5. 難黒鉛化性フラン樹脂炭素の表面黒鉛化 奨学寄附金 2001/04/01-2002/03/31

論文

  1. 研究論文(学術雑誌) 共著 STEM Moiré Observation of Lattice-Relaxed Germanium Grown on Silicon Junji Yamanaka,Chiaya Yamamoto,Hiroki Nakaie,Tetsuji Arai,Keisuke Arimoto,Kosuke O. Hara,Kiyokazu Nakagawa Journal of Materials Science and Chemical Engineering 5/ 1, 102-108 2017/01/01 2327-6045
  2. 研究論文(学術雑誌) 共著 Ohmic Contact Formation for n+4H-SiC Substrate by Selective Heating Method Using Hydrogen Radical Irradiation Tetsuji Arai,Kazuki Kamimura,Chiaya Yamamoto,Mai Shirakura,Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Toshiyuki Takamatsu,Masaaki Ogino,Masaaki Tachioka,Haruo Nakazawa Journal of Materials Science and Chemical Engineering 5/ 1, 35-41 2017/01/01 2327-6045
  3. 研究論文(学術雑誌) 共著 TEM Observation of Si0.99C0.01 Thin Films with Arsenic-Ion-, Boron-Ion-, and Silicon-Ion-Implantation Followed by Rapid Thermal Annealing Junji Yamanaka,Shigenori Inoue,Keisuke Arimoto,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,Yasuhiro Shiraki,Atsushi Moriya,Yasuhiro Inokuchi,Yasuo Kunii Journal of Materials Science and Chemical Engineering 5/ 1, 15-25 2017/01/01 2327-6045
  4. 研究論文(学術雑誌) 共著 Reduction of Dislocation Densities of Ge Layers Grown on Si Substrates by Using Microwave Plasma Heating and Fabrication of High Hole Mobility MOSFETs on Ge Layers Hiroki Nakaie,Tetsuji Arai,Chiaya Yamamoto,Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Toshiyuki Takamatsu Journal of Materials Science and Chemical Engineering 5/ 1, 42-47 2017/01/01 2327-6045
  5. 研究論文(学術雑誌) 共著 TEM and STEM Observations of a Flat Continuous Silicon-Germanium Thin Film Epitaxially Grown on Porous Silicon Junji Yamanaka,Noritaka Usami,Sevak Amtablian,Alain Fave,Mustapha Lemiti,Chiaya Yamamoto,Kiyokazu Nakagawa Journal of Materials Science and Chemical Engineering 5/ 1, 26-34 2017/01/01 2327-6045

研究発表

  1. ポスター発表 TEM and STEM Observations of a Flat Continuous Silicon-Germanium Thin Film Epitaxially Grown on Porous Silicon The 3rd Int'l Conference on Thin Film Technology and Applications (TFTA 2017) 2017/01/04
  2. 口頭発表(一般) TEM observation of Si0.99C0.01 Thin Films with Arsenic-Ion-, Boron-Ion-, and Silicon-Ion-Implantation follewd by Rapid Thermal Annealing The 3rd Int'l Conference on Thin Film Technology and Applications (TFTA 2017) 2017/01/04
  3. 口頭発表(一般) STEM Moiré Observation of Lattice-Relaxed Germanium Grown on Silicon The 3rd Int'l Conference on Thin Film Technology and Applications (TFTA 2017) 2017/01/04
  4. 口頭発表(招待・特別) STEM Moiré Observation of Ge/Si Produced by MBE and New Heating Method Using Plasma Technique 2016 Global Research Efforts on Energy and Nanomaterials (GREEN 2016) 2016/12/22
  5. ポスター発表 The Influence of Stress-Induced Twins upon Surface Morphology of SiGe/Si(110) The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy ICCGE-18 2016/08/07

上記以外の発表の総数

  1. 2016 17 0 17
  2. 2015 14 0 14
  3. 2014 11 0 11
  4. 2013 15 0 15
  5. 2012 11 0 11

受賞

  1. ISSP 2013 Best Poster Award 2013/07/12 In situ formation of aluminum germanate interlayer for high-k/Ge metal-oxide-semiconductor structure by atomic layer deposition with trimethylaluminum and microwave-generated atomic oxygen
  2. 日本顕微鏡学会第69回学術講演会優秀ポスター賞[材料系] 2013/05/21 選択エッチングとFE-SEM を活用したFe-Al-Ni合金中B2 析出物の形態観察

学外あるいは所属学部等外の組織との共同研究

  1. 2014/04/01-2015/03/31 東北大学電気通信研究所共同プロジェクト研究 分担 プラズマプロセスによる各種high-k/Ge構造の作製と界面近傍のトラップの評価 TEMによる界面の構造評価
  2. 2009/04/01-2010/03/31 山梨大学クリーンエネルギー研究センター 代表 プラズマ合成したニッケル触媒の微細構造観察
  3. 2009/04/01-2010/03/31 山梨大学クリーンエネルギー研究センター 代表 プラズマ合成したニッケル触媒の微細構造観察
  4. 2008/04/01-2009/03/31 山梨大学クリーンエネルギー研究センター 代表 プラズマ合成したニッケル触媒の微細構造観察
  5. 2007/04/01-2008/03/31 山梨大学クリーンエネルギー研究センター 代表 プラズマ合成したニッケル触媒の微細構造観察 特殊なニッケル触媒の結晶粒サイズ,組織を明らかにした.特に,透過電子顕微鏡の一部部品を特殊なものに取り換えて,一般的な仕様では実行不可能な観察を実施した.

所属学協会

  1. 日本顕微鏡学会
  2. 日本金属学会
  3. 応用物理学会
  4. 日本セラミックス協会 -2017/03/31

学外委員

  1. 大学連携研究設備ネットワーク 西関東・甲斐地域委員 2017/04/01
  2. 大学連携研究設備ネットワーク 委員代理 2017/04/01
  3. 大学連携研究設備ネットワーク 装置管理者 2010/04/01-2018/03/31
  4. 日本顕微鏡学会 関東支部評議員 2009/04-2011/04
  5. 日本顕微鏡学会 関東支部幹事 2009/04-2011/03