山梨大学
大学院 総合研究部 工学域
物質科学系(クリスタル科学研究センター)

顔写真
准教授

有元 圭介

アリモト ケイスケ
Arimoto Keisuke

経歴

  1. 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 社員 1999/04/01
  2. コーニング・ジャパン株式会社 研究員 2000/10/01
  3. 東京大学 技術補佐員 2002/01/01
  4. 山梨大学 助手 2002/03/01
  5. 山梨大学医学工学総合研究部 准教授 2011/04/01

学歴

  1. 東京大学 1997/03/01
  2. 東京大学 1999/03/01
  3. 山梨大学 2009/09/30

学位

  1. 博士(工学) 山梨大学 2009/09/29

研究分野

  1. 応用物性・結晶工学

研究キーワード

  1. シリコンゲルマニウム

研究テーマ

  1. SiGeの電気伝導特性
  2. 歪みの制御によるエネルギーバンド構造の変調
  3. 多結晶SiGe薄膜の形成とその応用

論文

  1. 研究論文(学術雑誌) 共著 Hole generation associated with intrinsic defects in SOI-based SiGe thin films formed by solid-source molecular beam epitaxy Motoki Satoh, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kentarou Sawano, Yasuhiro Shiraki, Kiyokazu Nakagawa JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 123, 161529 2018/04/28 0021-8979
  2. 研究論文(学術雑誌) 共著 BaSi2 formation mechanism in thermally evaporated films and its application to reducing oxygen impurity concentration Kosuke O. Hara, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Noritaka Usami JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 57, 04FS01 2018/02/23 0021-4922
  3. 研究論文(学術雑誌) 共著 Surface Roughness of SiGe/Si(110) Formed by Stress-Induced Twins and the Solution to Produce Smooth Surface Junji Yamanaka, Mai Shirakura, Chiaya Yamamoto, Naoto Utsuyama, Kei Sato, Takane Yamada, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa   6, 25-31 2018/01/05
  4. 研究論文(学術雑誌) 共著 Formation of Poly-Si Films on Glass Substrates by Using Microwave Plasma Heating and Fabrication of TFT’s on the Films Hiroki Nakaie, Tetsuji Arai, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa, Kazuki Kamimura, Toshiyuki Takamatsu   6, 19-24 2018/01/05
  5. 研究論文(学術雑誌) 共著 Investigation on the origin of preferred a-axis orientation of BaSi2 films deposited on Si(100) by thermal evaporation Kosuke O. Hara, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Noritaka Usami MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING 72, 93-98 2017/12/01 1369-8001

研究発表

  1. ポスター発表 (110)面歪みSi薄膜の臨界膜厚 第65回応用物理学会春季学術講演会 2018/03/19
  2. 口頭発表(招待・特別) BaSi2蒸着における蒸気組成と成膜過程解析 第65回応用物理学会春季学術講演会 2018/03/19
  3. 口頭発表(招待・特別) Simple Thermal Evaporation Route to Single-Phase and Highly-Oriented BaSi2 Thin Films 2017 MRS Fall Meetings & Exhibit 2017/11/28
  4. 口頭発表(招待・特別) 277 高移動度トランジスタ実現に向けた4族半導体の歪みエンジニアリング 第2回ニューフロンティアリサーチワークショップ 2017/11/24
  5. 口頭発表(一般) Development of preferred orientation in evaporated BaSi2 films on Si(100) by controlling the near-interface structure 27th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-27) 2017/11/14

上記以外の発表の総数

  1. 2015 8 0 8
  2. 2014 9 0 9
  3. 2013 12 2 10
  4. 2012 6 0 6
  5. 2011 13 0 13

知的財産権

  1. 電界効果トランジスタおよびその製造方法 特願2004-162677 2004/06/01

学外あるいは所属学部等外の組織との共同研究

  1. 2014/04/01-2015/03/31 東北大学金属材料研究所 代表 東北大学金属材料研究所 試料作製、評価、総括
  2. 2013/04/01-2014/03/31 東北大学金属材料研究所 代表 Si1-xCx/Siヘテロ構造の形成における格子間炭素組成の低減による高正孔移動度化
  3. 2012/04/01-2013/03/31 東北大学金属材料研究所 代表 歪みSi/Si1-xCxヘテロ構造における欠陥形成過程の解明と高品質膜形成プロセスの開発
  4. 2011/04/01-2012/03/31 東北大学金属材料研究所 代表 歪みSi/Si1-xCxヘテロ構造の応力制御
  5. 2010/04/01-2011/03/31 東北大学金属材料研究所 代表 シリコン・カーボン混晶薄膜の電気伝導特性に関する研究

担当授業科目

  1. 応用工学実験I
  2. 応用工学実験II

指導実績

  1. 博士学位論文指導 2017 1 1 3 12
  2. 修士学位論文指導 2017 3 3 3 12

修士・博士論文審査

  1. 2017 主査 1

所属学協会

  1. 応用物理学会